蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡主要優(yōu)勢(shì)有：靈活的探測(cè)，4步工作流程，的分析性能

將的分析性能與場(chǎng)發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測(cè)器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動(dòng)的4步工作流程節(jié)省大量的時(shí)間：設(shè)置成像與分析步驟，提效率。

Sigma 300 性價(jià)比高。Sigma 500 裝配有的背散射幾何探測(cè)器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時(shí)間，任何樣品均可獲得可重復(fù)的分析結(jié)果。

蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡是基于成熟的 Gemini 技術(shù)

Gemini 鏡頭的設(shè)計(jì)結(jié)合考慮了電場(chǎng)與磁場(chǎng)對(duì)光學(xué)性能的影響，并將場(chǎng)對(duì)樣品的影響降至更低。這使得即使對(duì)磁性樣品成像也能獲得出色的效果。

Gemini in-lens 的探測(cè)確保了信號(hào)探測(cè)的效率，通過二次檢測(cè)(SE)和背散射(BSE)元件同時(shí)減少成像時(shí)間。

Gemini 電子束加速器技術(shù)確保了小的探測(cè)器尺寸和高的信噪比。

本文有蔡司顯微鏡廠家小編Pancy整理，更多關(guān)于蔡司場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡相關(guān)的咨詢

二次電子像分辨率 0.8 nm（加速電壓 15 kV），1.0 nm（加速電壓 1 kV ）

分析時(shí) 3.0 nm (加速電壓 15 kV, WD 8 mm, 探針電流 5 nA ) 

倍率 Direct magnification:  x25 to 1,000,000（120 x 90 mm）

Display magnification:  x75 to 3,000,000（1,280 x 960 pixels） 

加速電壓 0.1 ～ 30 kV 

探針電流 數(shù) pA ～ 200 nA 

電子槍 浸沒式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍 

透鏡系統(tǒng) 聚光鏡（CL）、  最 佳光闌角控制鏡（ACL）、  半浸沒式物鏡（OL） 

樣品臺(tái) 全對(duì)中測(cè)角樣品臺(tái)、5軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng) 

電子檢測(cè)器系列 高位檢測(cè)器、　r‐過濾器　內(nèi)置、  低位檢測(cè)器 

自動(dòng)功能 自動(dòng)聚焦、自動(dòng)消象散、自動(dòng)亮度/襯度調(diào)節(jié) 

圖像觀察用

液晶顯示器 屏幕尺寸 23英寸寬屏

 分辨率　1,920 × 1,080像素 

抽真空系統(tǒng) 電子槍室／中間室　SIP 離子泵

樣品室　TMP 分子泵 

       簡(jiǎn)介： 

       電子束曝光技術(shù)（Electron Beam Lithography）指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術(shù)的延伸應(yīng)用。 光刻技術(shù)的精度受到光子在波長(zhǎng)尺度上的散射影響。使用的光波長(zhǎng)越短，光刻能夠達(dá)到的精度越高。根據(jù)德布羅意的物質(zhì)波理論， 電子是一種波長(zhǎng)極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達(dá)到納米量級(jí)，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光技術(shù)在半導(dǎo)體工業(yè)中被廣泛使用于研究下一代超大規(guī)模集成電路。

圖形發(fā)生器及PC機(jī)（中科院電工所 DY-2000A）

       電子束曝光的設(shè)備實(shí)現(xiàn)電子束曝光技術(shù)有專門的儀器—電子束曝光機(jī)。也可以利用掃描電子顯微鏡作為平臺(tái)，配置圖形發(fā)生器軟/ 硬件和工作站，按照提前設(shè)計(jì)好的圖形，通過控制掃描電子顯微鏡的掃描線圈，使電子束按照一定順序在光刻膠上完成曝光動(dòng)作。

       日本電子（JEOL）JSM系列熱場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡在EBL技術(shù)應(yīng)用中的優(yōu)勢(shì)： 

       1.浸沒式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍，壽命長(zhǎng)，Z大束流可達(dá)500nA。 

       2.束流穩(wěn)定度高。 

       3.ACL（Z優(yōu)角孔徑控制鏡），可在大束流下已經(jīng)保持小電子束斑直徑。 這三者結(jié)合，在保證刻蝕精度和刻蝕尺度的情況下，實(shí)現(xiàn)了GX率。

　蔡司光學(xué)顯微鏡圖像對(duì)零配件和生產(chǎn)過程進(jìn)行清潔度檢測(cè)時(shí)，需要確保機(jī)械組件在無摩擦狀態(tài)下工作。必須避免因裂紋引起的泄漏，減少噴嘴和過濾器堵塞以及防止泵和閥門發(fā)生故障。

　　降低維護(hù)成本和縮短機(jī)器設(shè)備停機(jī)時(shí)間。

　　電子顯微鏡圖像全自動(dòng)納米級(jí)顆粒度分析軟件 —— 蔡司 SmartPI

　　利用電子顯微鏡分析濾膜上多達(dá) 200,000 個(gè)顆粒，并可選擇地了解材料的化學(xué)組份信息 – SmartPI 讓這一切的全自動(dòng)化運(yùn)行得以實(shí)現(xiàn)。

　　光學(xué)顯微鏡和電子顯微鏡的疊加圖像(包含 EDX 分析)蔡司關(guān)聯(lián)顆粒度分析能夠在光學(xué)和電子顯微鏡下快速測(cè)量與分析多達(dá) 200 個(gè)關(guān)鍵顆粒并表征它們 — 快速。這套用于顆粒度 EDS 分析的 Correlative Particle Analyzer 系統(tǒng)符合 ISO 16232 和 VDA19 標(biāo)準(zhǔn)。