MCR流變儀的光學(xué)測(cè)量控溫平臺(tái)，可以實(shí)現(xiàn)一平臺(tái)多功能的目的，在一個(gè)光學(xué)控溫平臺(tái)上，可以進(jìn)行顯微可視、UV光固化、偏光成像、熒光顯微、小角激光散射（SALS）、紅外光譜聯(lián)用、拉曼光譜聯(lián)用等流變-光學(xué)同步測(cè)量功能，可以在進(jìn)行流變測(cè)試的同時(shí)觀察樣品的微觀結(jié)構(gòu)、進(jìn)行光譜分析。

       光學(xué)控溫平臺(tái)有兩種，一個(gè)是Peltier控溫系統(tǒng)，溫度范圍為-20℃ - 200℃；另一個(gè)是電加熱控溫系統(tǒng)，溫度范圍為RT - 300℃。兩種控溫系統(tǒng)均由下加熱板和上加熱罩組成，可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確均勻的溫度控制。

       光學(xué)顯微可視模塊與流變學(xué)方法相結(jié)合，可以觀察剪切力和變形力對(duì)樣品微觀結(jié)構(gòu)的影響，結(jié)構(gòu)參數(shù)和流變參數(shù)可以同時(shí)進(jìn)行研究。例如，您可以通過(guò)顯微鏡觀察和記錄剪切場(chǎng)中不同位置的受剪切乳液結(jié)構(gòu)。

        在此控溫平臺(tái)基礎(chǔ)上可使用的光學(xué)模塊包含以下幾個(gè)方面：

顯微可視模塊

        長(zhǎng)焦物鏡，標(biāo)準(zhǔn)放大倍數(shù) 20X（可按需提供 5X、10X 和 50X 的物鏡）

UV光固化測(cè)量模塊

       用于研究光固化或老化反應(yīng)的UV測(cè)量模塊可以對(duì)樣品施加UV照射，可選擇高壓汞燈或LED光源。

SALS小角激光散射模塊

       用于研究樣品內(nèi)微米尺寸范圍的結(jié)構(gòu)信息，通過(guò)激光散射分析分散相結(jié)構(gòu)的尺寸信息、取向信息，主要用于乳液、液晶、懸浮液等分散性體系樣品。

偏光成像模塊

        主要用于聚合物熔體的剪切誘導(dǎo)結(jié)晶研究，觀察樣品在剪切脈沖作用下的結(jié)晶偏光圖像。