三維激光直寫系統技術由來介紹。由于樹脂材料的黏度、表面張力等因素的影響，小涂層厚等因素的限制；以及微立體光刻固化是基于單光子吸收聚合固化的本質特性，微立體光刻目前能達到的分辨率是在微尺度范圍，如果進一步提高微立體光刻的分辨率，實現亞微尺度和納尺度結構制造將面臨巨大的挑戰。

　　基于雙光子聚合三維激光直寫提供了一種有效的解決方案，而且是目前實現納尺度3D打印有效的一種技術。

　　不同于傳統的微立體光刻(是一種單光子微立體光刻工藝)，基于雙光子聚合激光直寫3D打印是基于雙光子聚合原理。 

      三維激光直寫是制作衍射光學元件的主要技術之一，可在光刻膠的表面直接寫入多臺階、連續位相浮雕微結構，與二元光學方法相比，工藝簡單，避免了多套掩模之間的套刻對準環節，改善了DOE的加工精度，從而提高DOE的衍射效率。

      三維激光直寫的原理：激光直寫是利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光，顯影后在抗蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓。激光直寫系統的基本工作原理是由計算機控制高精度激光束掃描，在光刻膠上直接曝光寫出所設計的任意圖形，從而把設計圖形直接轉移到掩模上。

　　三維激光直寫系統的主要由激光器、聲光調制器、投影光刻物鏡、CCD攝像機、顯示器、照明光源、工作臺、調焦裝置、激光干涉儀和控制計算機等部分構成。