三維激光直寫的優勢
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三維激光直寫光刻機是一種用于物理學、信息科學與系統科學、材料科學、機械工程領域的儀器，于2012年12月24日啟用。
三維激光直寫采用高功率LED（λ：405nm）光源和全自動對焦、對準技術，長壽命、低功耗。采用專 利技術的LED固體光源和高精密光柵尺定位工作平臺，可實現0.65um的亞微米分辨率光刻及0.6um的套刻精度。
三維激光直寫主要功能：該設備是基于空間光調制器的直寫光刻設備，用于制作光刻掩膜。
直寫前預檢查：軟件可以實時顯微觀測基體表面，并顯示預直寫圖形位置。通過調整位置、角度，直到設計圖形按要求與已有結構重合，保證直寫準確。
三維激光直寫的優勢：
無需掩模，可實現納米級精度的三維加工
自主研發的超高速加工方式，便于工業應用
擁有極小的拼接誤差
適用高達12英寸的基材
全自動控制系統
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